等離子廢氣處理除臭和UV光氧催化設(shè)備都是用于工業(yè)的廢氣處理，本文講解關(guān)于這兩者之間有什么區(qū)別，哪個處理的效果會更好一些?

　　等離子除臭設(shè)備：處理原理是在外加電場的作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生的大量粒子與空氣中的氧分子碰撞以形成正負(fù)氧離子，采用正負(fù)雙極電離技術(shù)。

　　設(shè)備中的正氧離子是具有很強的氧化性能，它能夠在很短的時間內(nèi)氧化分解污染因子并且在與VOC分子接觸時能夠打開有機揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵的，最后有機廢氣反應(yīng)生成無害的二氧化碳和水等小分子。

　　UV光氧催化設(shè)備：

　　設(shè)備利用催化劑在紫外光的照射下產(chǎn)生的電子空穴，中短波紫外線光子是有攜帶能量的，紫外線的光子可以轟擊有機物的分子鏈，設(shè)備中的催化劑表面吸附的水產(chǎn)生羥基自由基，或者是可以使周圍的氧還原成活性離子氧，這時候是具有很強的氧化還原能力的，它可以將光催化劑表面的各種污染物分解。

　　兩種廢氣處理設(shè)備之間的區(qū)別在于：

　　設(shè)備采用的處理原理不同，離子除臭設(shè)備可以將大局部動能轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能，光氧除臭設(shè)備在高能高臭氧紫外線光束合成空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧。

　　對于含有有機類惡臭成分、低濃度以及含有餐飲行業(yè)油煙氣味的廢氣可以用UV光解催化設(shè)備，對于車間、污水站、垃圾除臭、新風(fēng)系統(tǒng)、工廠等場所產(chǎn)生的工業(yè)廢氣可以用等離子除臭設(shè)備。